鋁氧化氧化時(shí)間的選擇

鋁氧化氧化時(shí)間的選擇，取決于電解液濃度，溫度，陽(yáng)極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下,當電流密度恒定時(shí),膜的生長(cháng)速度與氧化時(shí)間成正比；但當膜生長(cháng)到一定厚度時(shí),由于膜電阻升高,影響導電能力,而且由于溫升,膜的溶解速度增大，所以膜的生長(cháng)速度會(huì )逐漸降低，到最后不再增加。